Lifting indirect des sinus

La pose d’implants dans la partie postérieure du maxillaire présente des difficultés importantes en raison de la réduction de la hauteur osseuse résultant de la perte de dents, de l’expansion des sinus ou de la résorption osseuse. Le processus naturel de perte osseuse dans cette région est accéléré par le manque de vascularisation et de stimulation musculaire, ce qui compromet la qualité de l’os. En outre, le sinus maxillaire s’étend souvent vers le bas, ce qui réduit encore la hauteur d’os disponible nécessaire à la mise en place d’implants sûrs. Historiquement, les implants dans le maxillaire postérieur étaient posés sans tenir compte de la topographie du sinus, ce qui entraînait souvent des problèmes prothétiques en raison d’une flexibilité et d’une contrainte excessives. Cela a conduit à des échecs potentiels des implants et à des incertitudes quant au succès à long terme des implants sous-périostés. Pour résoudre ces problèmes, la technique du sinus lift, introduite par Tatum Jr. et documentée par Boyne, est devenue une procédure essentielle pour augmenter le plancher sinusal afin de faciliter la pose d’implants. Il existe deux méthodes principales d’élévation du plancher sinusal : l’approche en un temps (transalvéolaire) et l’approche en deux temps (fenêtre latérale).